芯片行業(yè)一直是困擾全球的“卡脖子”領域,而其中核心的光刻機技術被幾家公司牢牢的攥在手里 。
想要在芯片領域有長足的進步,光刻機這種核心設備就要有所突破 。而之前美國通過自身在全球市場的控制能力,通過修改法案等手段一直將光刻機設備和技術限制對中國進行輸出 。
但近期光刻機頭部企業(yè)ASML則明確表態(tài)將會盡其所能向中國市場提供一切他們能夠提供的技術,其中DUV光刻機將會不需要認可許可即可向中方企業(yè)提供 。

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除此之外,ASML表示在當前法律框架之下,他們除了EUV光刻機無法向中方企業(yè)提供,其他產品都可以正常發(fā)售 。這也從側面看的出來ASML對中國市場是十分重視,甚至是渴望的 。
ASML如此也是從自身利益考慮,畢竟中國市場的體量巨大,而且中國本土光刻機廠商的技術也在高速發(fā)展,趕超ASML只是時間問題,如果在那之前不能迅速進入中國市場站穩(wěn)腳跟,對于ASML自身來講將會機會將會越來越小 。
無論是光刻機還是芯片我們更需要自己掌握核心技術,這樣才不會受制于人 。

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