光刻機到底難在哪里
1、難在它的制造精度 , 為了便于形象地解釋 , 光刻機制造芯片的過程就相當(dāng)于“沖洗照片” 。設(shè)計好的集成電路的電路圖相當(dāng)于照片的“拍攝的內(nèi)容”,晶圓就相當(dāng)于“相紙”,光刻機的其它機構(gòu)就相當(dāng)于與照相機的“鏡頭機構(gòu)” 。
2、不同的是洗照片是將照片放大呈現(xiàn)到相紙上,制造芯片是將設(shè)計的集成電路微縮到晶圓上拇指大小的區(qū)域內(nèi),而且電路的投影精度達到了納米量級 。
【光刻機到底難在哪里】3、光刻機的加工過程,光刻機技術(shù)發(fā)展已經(jīng)發(fā)展到了紫外光階段,我們就以紫外光為例說明 。光刻機加工芯片的過程簡單地講就是,光源提供的紫外光照射到刻著電路設(shè)計圖的掩模板上,紫外光透過掩模板后進入物鏡,物鏡將掩模板上的電路圖大比例的縮小后,將電路投影到硅片上,這樣硅片上就刻下設(shè)計好的電路圖,這個過程中曝光臺和測量臺處于聯(lián)動的狀態(tài) 。
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