蝕刻相對(duì)于光刻來說要容易一些 。光刻機(jī)把圖案印上去 ， 然后蝕刻機(jī)根據(jù)印上去的圖案蝕刻掉有圖案（或者沒有圖案）的部分，留下剩余的部分 。
“光刻”是指在涂滿光刻膠的晶圓（或者叫硅片）上蓋上事先做好的光刻板 ， 然后用紫外線隔著光刻板對(duì)晶圓進(jìn)行一定時(shí)間的照射 。原理就是利用紫外線使部分光刻膠變質(zhì)，易于腐蝕 。
【蝕刻機(jī)和光刻機(jī)區(qū)別】“蝕刻”是光刻后，用腐蝕液將變質(zhì)的那部分光刻膠腐蝕掉（正膠），晶圓表面就顯出半導(dǎo)體器件及其連接的圖形 。然后用另一種腐蝕液對(duì)晶圓腐蝕 ， 形成半導(dǎo)體器件及其電路 。蝕刻分為兩種，一種是干刻，一種是濕刻（目前主流），顧名思義，濕刻就是過程中有水加入，將上面經(jīng)過光刻的晶圓與特定的化學(xué)溶液反應(yīng)，去掉不需要的部分，剩下的便是電路結(jié)構(gòu)了 ， 干刻目前還沒有實(shí)現(xiàn)商業(yè)量產(chǎn)，其原理是通過等離子體代替化學(xué)溶液，去除不需要的硅圓部分 。

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