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我們平時(shí)看到那一個(gè)個(gè)圓片的晶圓，這名 UP 直接用水果刀，在棒子上像 “ 片 ” 羊肉一樣把晶圓切出來(lái) 。

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這樣成片的硅晶圓有了，下一步才是展現(xiàn)實(shí)力的時(shí)候——刻：光刻和刻蝕。
這位 UP，先是涂上一層 “ 光刻膠 ”，然后把自己的硅晶圓搬到一個(gè)小暗房，用紫外線等把電路圖印在晶圓上，這樣 UP 主就完成了土 “ 光刻 ” 這一步。
那正兒八經(jīng)的光刻是咋樣的呢？
當(dāng)我們有了剛從棒子上 “ 片 ” 好的晶圓，得先做一次無(wú)塵化處理，但凡一?；覊m混進(jìn)去，都會(huì)對(duì)硅晶圓的導(dǎo)電性產(chǎn)生影響，那這塊晶圓基本就廢了。

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做好無(wú)塵化清潔處理，我們?cè)偻可弦粚庸饪棠z，開(kāi)始印電路圖。
為啥用光刻膠呢，因?yàn)樗鼘?duì)紫外線極其敏感。
我們拿出芯片設(shè)計(jì)階段前設(shè)計(jì)好的電路圖掩膜，用強(qiáng)紫外線光束透過(guò)掩膜把電路圖印在光刻膠上，第一輪光刻就算結(jié)束了

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看上去也不是很難？
那你聽(tīng)完我給你講的這幾個(gè)細(xì)節(jié) 。
首先是芯片制造環(huán)境，因?yàn)楣饪棠z對(duì)紫外線這種短波光極其敏感，普通日光燈里的紫外線也會(huì)讓光刻膠前曝光，所以晶圓制造的整個(gè)實(shí)驗(yàn)室內(nèi)燈光全都是長(zhǎng)波長(zhǎng)的黃光。

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這也是我們平時(shí)網(wǎng)上看到的制芯實(shí)驗(yàn)室都是 “ 黃不拉幾 ” 的原因，有點(diǎn)像是很久以前膠片沖洗的暗房。
說(shuō)完環(huán)境，我們?cè)僬f(shuō)光刻最重要的玩意——光。
就一個(gè)紫外線光也分類很多，比如 UV（紫外線：Ultraviolet ）光。
目前業(yè)界使用最多的 DUV（ Deep Ultraviolet ）光，它的波長(zhǎng)是 193nm，除了光刻，DUV 還被用在矯正近視眼上面。

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而現(xiàn)在最牛掰的就數(shù) EUV（Extreme Ultraviolet ），它的波長(zhǎng)只有 13.5 nm 。
之所以我們能造出來(lái)越來(lái)越小制成的芯片，從 14nm 到 7nm 再到 5nm 甚至 3nm，都源于不斷精進(jìn)的紫外線波長(zhǎng) 。
巧妙的是，EUV 其實(shí)還是用的 DUV 的光源，只要用 DUV 的光脈沖去連續(xù)兩次打擊液態(tài)金屬錫，就可以激發(fā)出波長(zhǎng)更短的 EUV 。

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并且上述這些操作，可都是納米級(jí)的哈。
除此之外，光刻機(jī)里那些反射 EUV 光線的鏡子也大有學(xué)問(wèn) 。

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那個(gè)直徑 30 厘米的鏡子，用 ASML 的話說(shuō)：
“ 這可能是宇宙中最平滑的人造結(jié)構(gòu) ”。
它有多平呢？如果這塊鏡子有地球那么大，那它不平的地方也就一根頭發(fā)絲的厚度。
光刻結(jié)束以后，下一步就是刻蝕了。
光刻只是把電路圖印在上面，而工業(yè)級(jí)的刻蝕等一系列步驟可以把這些電路圖壘起來(lái)，并讓它導(dǎo)電。
咱先說(shuō) UP 主這邊，光刻結(jié)束以后，他直接掏出一瓶酸開(kāi)始了他的土 “ 刻蝕 ” 步驟。

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但酸刻蝕會(huì)刻的相當(dāng)不均勻，還可能會(huì)損壞晶圓體，而且要酸沖蝕好幾遍才能弄干凈。
但正兒八經(jīng)的刻蝕應(yīng)該是啥樣的？
這就得說(shuō)到專業(yè)的刻蝕機(jī)了。

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